丹阳市宝来利真空机电有限公司2024-12-11
多弧离子镀膜(Arc Ion Plating,AIP)是利用高能电弧放电使金属靶材气化并电离,将高能金属离子沉积在基材表面形成涂层的气相沉积(PVD)技术之一。其重点是电弧放电,由高电流密度的电弧光斑触发,在靶材表面产生局部高温,使靶材材料剧烈气化,进而形成高能金属离子。这些离子在电场的作用下迅速加速并向基材方向运动,然后在基材表面沉积并形成涂层。
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多弧离子镀膜设备的技术参数因型号和制造商而异,但通常包括真空度、有效镀膜空间、抽真空时间、极限压力、工作真空度、偏压电源等。例如,某些型号的多弧离子镀膜机具有单室真空室,尺寸为ø1000*1000mm²,有效镀膜空间为ø600*600mm²,抽真空时间小于15分钟(室温空真空室从大气压抽到4.0*10^-3Pa),极限压力为3.0×10^-4Pa,工作真空度为10~1.0×10^-1Pa。
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